인텔은 최근 14nm 공정 기반의 브로드웰 (Broadwell)의 개발에 박차를 가하고 있는 가운데 10nm 공정을 위해 이스라엘 공장의 업그레이드를 위한 비용을 투자를 계획한 것으로 알려졌다.
소식을 전한 expreview는 인텔은 10nm 공정 준비를 위해 이스라엘 (Israel) Fab 28의 업그레이드 비용으로 60억 달러를 투자할 계획이라고 전했다.
인텔은 14nm 공정의 확장을 위해 Fab 42 업그레이드를 진행한 바 있으나 업그레이드 계획을 연기한 바 있다. 14nm 공정은 D1X, Fab 42, Fab 24으로 알려진 아일랜드 (Ireland) 3개 Fab 업그레이드를 통해 진행할 예정이었는데 Fab 42는 현재 연기, 14nm 공정의 메인 Fab은 미국과 아일랜드에 위치하고 있다.
이와는 별개로 인텔은 미래의 10nm 공정을 위한 이스라엘에 60억 달러 투자를 계획하고 있다. 이스라엘 정부는 향후 5년 동안 인텔에 3억 달로 보조금 지급, 10년 동안 세금을 5% 이하로 낮춰주며 투자 외에도 10년 동안 2500명의 직원에 1000명의 직원을 더 고용할 것으로 알려졌다. 인텔은 40년 이상 이스라엘에 투자해왔으며 Haifa 연구센터를 비롯하여 2008 사우스 시티의 Fab 28 웨이퍼 Fab은 45nm 생산을 진행했고 현재 22nm 제품을 생산 중이다.
인텔이 이스라엘에 진행할 60억 달러의 투자는 어떻게 진행될지는 아직 구체적으로 알려져 있지 않으나 14nm 공정은 새로운 Fab으로 업그레이드가 이루어지고 Fab 28은 미래의 10nm 공정을 위한 주요 거점이 될 것으로 알려졌다. 인텔의 Fab 28은 2011년 22억 달러, 2012년에는 46억달러로 투자 비용이 증가했으나 2013년에는 38억달로러 낮아진 바 있다.
한편 인텔은 마이크론 (Micron)과 협력해 이스라엘에 Fab 18을 건설할 계획이며 이곳에서는 플래시 메모리 생산이 이루어질 예정이다.
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